等離子刻蝕是太陽能電池片的生產工藝流程之一，其他流程有矽片檢測、表麵製絨及酸洗、擴散製結、去磷矽玻璃、鍍（dù）減反射膜、絲網印刷、快速燒結等。東莞市普諾（nuò）克真空科技有限公司旗下的真空係統在等離子（zǐ）刻蝕中的應用是陽能電池片製造企業（yè）所采（cǎi）用的，因為普諾（nuò）克真空係統具有真空度高、性能穩定、壽命長、操作簡單維護方便，噪音少等特點。

我們先來了解一下等離子（zǐ）刻蝕是一個什麽樣的過程。

由於在擴散過程中，即使采用背靠背擴散，矽（guī）片的所有表麵包括邊（biān）緣都將（jiāng）不可避免地擴散上磷。PN結的正麵所（suǒ）收集（jí）到的光生電子會沿著（zhe）邊緣擴散有磷的（de）區域流到PN結（jié）的背麵，而造成短路。因此，必須（xū）對太陽能（néng）電池周邊的摻雜矽進行刻蝕，以去除電（diàn）池邊緣的PN結（jié）。通常采用等離子刻蝕（shí）技術完成這一工藝。等離子刻蝕是在低壓狀態下，反應氣體CF4的（de）母體分子在射頻（pín）功率的激發下，產生電離並形成等（děng）離子體。等離子體是由帶電的電子和離子組成，反應（yīng）腔體中的（de）氣體在電子的撞擊下（xià），除了轉變成離子外，還能吸收能量並形成大量的活性基團。活性反應基團由於擴散或者在電場作（zuò）用（yòng）下到達（dá）SiO2表（biǎo）麵，在那裏與被刻蝕材（cái）料（liào）表麵發（fā）生化學反應，並形成揮發性的反應生成物（wù）脫離（lí）被刻蝕物質表（biǎo）麵，被真空係統抽出腔體。

等離（lí）子刻蝕機結構主要包（bāo）括預（yù）真空室、刻蝕（shí）腔、供氣係統（tǒng）和真空係統四部分。

1.預真空室

預真空室的作用是確保刻蝕腔內維持在設定的真空度，不受外界環境（如：粉塵、水汽）的影響，將危險性氣體與潔淨廠房隔離開來。它（tā）由蓋板、機（jī）械手、傳動機構、隔離門等組成。

2.刻蝕腔體

刻（kè）蝕腔體是ICP 刻蝕設備的核心結構，它對（duì）刻蝕速率、刻蝕的垂直（zhí）度以及（jí）粗糙度都有直接的影響。刻（kè）蝕（shí）腔的主要組成有：上電極、ICP 射頻單元、RF 射頻單（dān）元、下電極係統、控溫係統等組成。

3.供氣係統

供氣係統是向刻蝕腔體輸送各種刻蝕氣體，通過壓力控製器（PC）和（hé）質量流量控製器（MFC）精（jīng）準的控（kòng）製氣（qì）體的流速（sù）和流量。氣（qì）體供應係統由氣源瓶、氣體輸送管道、控製係統、混合單元等組（zǔ）成。

4.真空係統

真空（kōng）係統有兩套，分別用於預真（zhēn）空室和刻（kè）蝕腔體。預真空室由（yóu）機械泵單獨抽真空，隻有在預真空室真空度達到設定值時，才能打開隔離門，進行傳送片。刻蝕腔體的真空由機械泵和分子泵共同提供，刻蝕腔體反（fǎn）應生成的氣體也由真空係統排空。

香蕉污视频真空係統在等離子刻蝕中（zhōng）的應用的作用是可（kě）以除去太陽電池周邊的在擴散工藝中在矽片的表麵和周邊都擴散了N型結，如果不去（qù）除（chú）周邊N型結會導致電池片正（zhèng）負極（jí）被周邊N型結連接起來時電池正負極相通起不到電池的作（zuò）用。如果矽片未刻蝕或刻蝕不（bú）淨沒及時發（fā）現並下傳印刷將產生低並組片。我們可（kě）以通過紅外熱（rè）成像儀檢（jiǎn）測（cè）並判（pàn）斷低並組是否由刻（kè）蝕原因產生的。