眾所（suǒ）周知，半導體工藝水（shuǐ）平決定了晶體管尺寸大小。在（zài）半導體（tǐ）廠或光電廠中，真空係（xì）統應（yīng）用（yòng）於提供製程設備的真空吸盤或吸筆來搬運傳送晶片或玻璃，為半導體製程中相當重要之支援係統。本篇文章涉及半導體（tǐ）製程（chéng）技術（shù）領域，在介紹（shào）真空係統在半導體製程中的應（yīng）用之前，我司打算先對半導體製（zhì）程和真空（kōng）係統做些簡單的介紹。

在真空（kōng）係統中，真空針對大氣而言，表示一特定空間或係統內部分氣體被排出，其內（nèi）部空（kōng）間的壓力小於大氣壓力（lì），則稱此空間為真空或為真空狀態，簡單言之（zhī），空（kōng）間內壓力低於一大氣壓力即為真空。在高科技製程中所要求的高真空或（huò）超高真空，就必須要（yào）有足夠的（de）真空（kōng）技術或設備才能達成（chéng）。

半導體製程專用真空係統（tǒng）的（de）真空度要（yào）求一般為（wéi）700-~500mmHg之間，僅落（luò）在粗略真空範圍內，而製程設備真（zhēn）空度要求則視其應用範（fàn）圍而定，而（ér）落在中真空度與超高真空度（dù）或以（yǐ）上之範圍。

不同類型（xíng）的真空泵組合而成的係統，真空度也有所不一（yī）樣，關於（yú）真（zhēn）空係統的類型，東莞市（shì）香蕉污视频真空科（kē）技有限公（gōng）司整理出幾大類（lèi）。

真空係統的（de）類型有三種：

1.低真空係統

2.中真空係統

①由羅茨泵為（wéi）主泵（bèng）串聯（lián）機械泵而構成的係統（tǒng）；

②由油增（zēng）壓泵為主泵串聯機（jī）械泵（bèng）而構成的係統；

③由羅茨泵串聯（lián）小羅茨泵，再串聯機（jī）械泵而（ér）構成的係統。

3.高真空係統

①由擴散泵為主泵串聯羅茨泵，再串聯機械泵而構成的（de）係統；

②由（yóu）擴散（sàn）泵為主泵串聯機（jī）械（xiè）泵而構成的真空係統；

③由擴散泵為主泵串聯油增（zēng）壓泵，再串聯機械泵而構成的真空係統。

根據上述所提到的內容，在半導體製程中，最（zuì）佳的方（fāng）法（fǎ）就是選擇應用（yòng）高真空係統，高真空係統可以由不同的真（zhēn）空設備組合而成。

事實上簡單的真空係統隻是能獲得一個粗真空，而想要獲得高真空時，通常在（zài）真空係統中串聯一個高真空泵，比如羅茨泵和螺杆泵等都是獲（huò）得高真（zhēn）空的泵。當（dāng）串聯一個（gè）高真空泵之後，通常要在高真空泵的入口和出口分（fèn）別加上閥門，以便高真空泵能單獨保持真空。如果所串聯的高（gāo）真空泵是一個油擴散泵，為了防止大量的油蒸氣返（fǎn）流進（jìn）入被抽容器（qì），通常在油擴散泵的入口加（jiā）一個捕集器——水冷障板。根據要求，還可以在管（guǎn）路中加上除塵器、真空繼電器規頭（tóu）、真空軟連接管道、真空泵入口（kǒu）放氣閥，散熱器等等，這樣就構成了一個較完善的（de）高真空係統。

關於半導體製程和真空係統，小編就介紹到這裏，如果您（nín）仍對真空係統在（zài）半導體製程中的應用有什麽（me）疑惑的話，隨時（shí）可以聯係我司。